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CRHA2510AF200MFKEF
Chipwiderstand, Oberflächenmontage, 200 Mohm, ± 1%, 600 mW, 2510 [Metrisch: 6425]
Abbildung ggf. ähnlich. Alle Angaben ohne Gewähr. Ausschlaggebend sind die Produktinformationen des Herstellers.
HerstellerVISHAY
HerstellerteilenummerCRHA2510AF200MFKEF
Bestellnummer3596694RL
ProduktpaletteCRHA Series
Technisches Datenblatt
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| Menge | Preis (ohne MwSt.) |
|---|---|
| 50+ | 1,310 € |
| 250+ | 1,040 € |
| 500+ | 0,946 € |
| 1000+ | 0,924 € |
| 2000+ | 0,923 € |
Preiseinheit:Stück (Gurtabschnitt)
Minimum: 100
Mehrere: 5
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Produktspezifikationen
HerstellerVISHAY
HerstellerteilenummerCRHA2510AF200MFKEF
Bestellnummer3596694RL
ProduktpaletteCRHA Series
Technisches Datenblatt
Widerstand200Mohm
Widerstandstoleranz± 1%
Nennleistung600mW
Bauform/Gehäuse des Widerstands2510 [Metrisch: 6425]
WiderstandstechnologieDickschichtwiderstand
WiderstandstypHochspannung
ProduktpaletteCRHA Series
Temperaturkoeffizient± 100ppm/°C
Nennspannung2.5kV
Produktlänge6.3mm
Produktbreite2.5mm
Betriebstemperatur, min.-55°C
Betriebstemperatur, max.155°C
QualifikationAEC-Q200
SVHCTo Be Advised
Technische Spezifikationen
Widerstand
200Mohm
Nennleistung
600mW
Widerstandstechnologie
Dickschichtwiderstand
Produktpalette
CRHA Series
Nennspannung
2.5kV
Produktbreite
2.5mm
Betriebstemperatur, max.
155°C
SVHC
To Be Advised
Widerstandstoleranz
± 1%
Bauform/Gehäuse des Widerstands
2510 [Metrisch: 6425]
Widerstandstyp
Hochspannung
Temperaturkoeffizient
± 100ppm/°C
Produktlänge
6.3mm
Betriebstemperatur, min.
-55°C
Qualifikation
AEC-Q200
Technische Dokumente (1)
Gesetzgebung und Umweltschutz
Herkunftsland:
Land, in dem der letzte Fertigungsprozeß ausgeführt wurde.Herkunftsland:Mexico
Land, in dem der letzte Fertigungsprozeß ausgeführt wurde.
Land, in dem der letzte Fertigungsprozeß ausgeführt wurde.Herkunftsland:Mexico
Land, in dem der letzte Fertigungsprozeß ausgeführt wurde.
Tarif-Nr.:85332100
US ECCN:EAR99
EU ECCN:NLR
RoHS-konform:Ja
RoHS
RoHS-Phthalate-konform:Ja
RoHS
SVHC:To Be Advised
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Produkt-Konformitätszertifikat
Gewicht (kg):.0004
Produktnachverfolgung